اثر محلول پاشی نانو ذرات دی اکسید سیلیکون (SiO2)بر رشد گیاه دارویی پروانش (.Catharanthus roseus. L) در شرایط تنش شوری

پذیرفته شده برای پوستر اصل مقاله (229.48 K)

عنوان دوره: دهمین کنگره ملی علوم باغبانی

نویسندگان

¹اصغر عبادی سقرلو؛ ²الهام قربانیان؛ ¹رسول آذرمی

¹گروه علوم گیاهی، دانشگاه محقق اردبیلی، دانشکده کشاورزی و منابع طبیعی مغان

²دانشجوی رشته زیست شناسی، دانشگاه محقق اردبیلی، اردبیل

چکیده

کلیدواژه ها

پروانش؛ نانو ذرات دی اکسید سیلیکون؛ تنش شوری